ZEISS expande o segmento de litografia ótica

litografia20yptica_div20carl20zeiss_rgbA ZEISS planeja mais crescimento para seu centro de litografia óptica. O segmento de Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) planeja expandir seu potencial de produção na zona industrial situada entre as cidades de Oberkochen e Königsbronn, no sul da Alemanha.

O plano inclui não somente a expansão das áreas existentes, mas também a construção de uma ala para a nova geração de litografia óptica com luz ultravioleta extrema (EUV). Isso requer normas de produção ainda mais severas e devem estar disponíveis no início da próxima década.

Dr. Hermann Gerlinger, membro do Conselho Executivo da Carl Zeiss AG e chefe do segmento de SMT, explica: “A ZEISS continua trabalhando intensamente com a implementação da litografia EUV na produção de microchips. Os sinais positivos vindos do mercado nos últimos meses endossam a nossa decisão de investir ainda mais nessa tecnologia. Isso trará maiores demandas para o nosso know-how tecnológico e para nossa infraestrutura”.

No geral, o segmento investirá mais de 60 milhões de euros ao longo dos próximos anos. As áreas de produção serão ampliadas em cerca de 6 mil metros quadrados. As novas áreas de produção estão previstas para serem concluídas em 2018.

Foto: Divulgação ZEISS

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